高效鍍硬鉻催化劑
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產(chǎn)品分類
工藝條件
鉻酐
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250g/L
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硫酸
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2.7g/L
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HVEE(開缸)
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3g/L
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三價鉻
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1~3g/L
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溫度
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55~60℃
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DK
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30~90A/dm2
|
陰陽極面積比
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2~3:1
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HVEE補給量
|
2g/KAH
|
消耗量:
HVEE隨鉻酸消耗量的比例消耗,一般消耗100g的鉻酸,相應消耗1.5g的HVEE。
作用機制
1. 陰極電流效率高達22~26%,是傳統(tǒng)標準鍍鉻工藝的2~3倍,節(jié)約能源。
2. 使用電流密度寬廣,30~90A/dm2均可,沉積速度快。
3. 不含氟化物,對基體的低電流密度區(qū)不產(chǎn)生腐蝕,對陽極無腐蝕。
4. 鍍層硬度HV可達1000~1100,微裂紋數(shù)達400~1000條/cm。
5. 鍍層光亮,平滑細致,厚度均勻,深鍍能力佳。
6. 鍍液穩(wěn)定,易操作,維護方便。
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