丙炔基磺酸鈉
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產(chǎn)品分類
| 產(chǎn)品代號(hào)： | PS |
| 產(chǎn)品名稱： | 丙炔基磺酸鈉 |
| 英文名稱： | Sodium propyne sulfonate 分子式：C3H3NaO3S |
| 分 子 式： | C3H3NaO3S |
| 分 子 量： | 142.1 |
| CAS NO. ： | 55947-46-1 |
| 外 觀： | 淡黃色液體 |
| 含 量： | ≥35% |
| 包 裝： | 1kg、5公斤、10公斤塑料瓶；25kg藍(lán)桶。 |
| 存 儲(chǔ)： | 本品為非危險(xiǎn)品，儲(chǔ)存于陰涼、干燥、通風(fēng)的區(qū)域。 |
| 有 效 期： | 2年 |
| 分 子 式： |  |
| 參考配方： |
光亮酸性鍍鎳配方 亞光鍍鎳配方 鎳鐵合金電鍍添加劑配方 |
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產(chǎn)品應(yīng)用
在光亮鍍鎳中PS是輔助走位劑，加入PS能提高低區(qū)的光亮性和填平性，效果明顯，鍍層脆性小，通常與BSI、炔醇類等次級(jí)光亮劑配合使用。適用于光亮酸性鍍鎳、啞光鍍鎳、鎳鐵合金等工藝。
光亮酸性鍍鎳配方
注意點(diǎn)：
PS與BSI、DOSS、BKSS、PPS、PPSOH、PAP、DEP、PA、PVSS、PESS、MOSS、COSS 、PME、TPP、ATPN、VS、ALS等鍍鎳中間體可組成性能優(yōu)良的光亮鍍鎳添加劑，建議鍍液中用量為0.01-0.2g/L。鍍液中含量過低，鍍層填平光亮度下降，鍍液中含量過高，影響鍍層色澤，可活性炭吸附電解處理。鍍液中消耗量為8-12g/KAH。
亞光鍍鎳配方
注意點(diǎn)：
PS與BSI、DOSS、BKSS、PESS、MOSS、TPP、ATPN等中間體可組成性能優(yōu)良的亞光鎳添加劑，建議鍍液中用量為0.005-0.05g/L。鍍液中含量過低，鍍層低區(qū)填平光亮變差，鍍液中含量過高，鍍層容易發(fā)花，可活性炭吸附或小電流電解處理。鍍液中消耗量為2-3g/KAH。
鎳鐵合金電鍍添加劑配方
PS與BSI、DOSS、BKSS、PPS、PPSOH、PAP、DEP、PA、PVSS、PESS、MOSS、COSS 、PME、TPP、ATPN、VS、ALS等鍍鎳中間體可組成性能優(yōu)良的鎳鐵合金電鍍添加劑，建議鍍液中用量為0.01-0.2g/L。鍍液中含量過低，鍍層填平光亮度下降，鍍液中含量過高，影響鍍層色澤，可活性炭吸附電解處理。鍍液中消耗量為8-12g/KAH。
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